Wil je zeker zijn dat je cadeautjes op tijd onder de kerstboom liggen? Onze winkels ontvangen jou met open armen. Nu met extra openingsuren op zondag!
  • Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
  • Gratis thuislevering in België vanaf € 30
  • Ruim aanbod met 7 miljoen producten
Wil je zeker zijn dat je cadeautjes op tijd onder de kerstboom liggen? Onze winkels ontvangen jou met open armen. Nu met extra openingsuren op zondag!
  • Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
  • Gratis thuislevering in België vanaf € 30
  • Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Advances in X-Ray Analysis

Hardcover | Engels | Advances in X-Ray Analysis | nr. 34
€ 100,95
+ 201 punten
Verwachte leverdatum onbekend
Eenvoudig bestellen
Veilig betalen
Gratis thuislevering vanaf € 30 (via bpost)
Gratis levering in je Standaard Boekhandel

Omschrijving

The 39th Annual Denver X-Ray Conference on Applications of X-Ray Analysis was held July 30 -August 3, 1990, at the Sheraton Steamboat Resort and Conference Center, Steamboat Springs, Colorado. The "Denver Conference" is recognized to be a major event in the x-ray analysis field, bringing together scientists and engineers from around the world to discuss the state of the art in x-ray applications as well as indications for future develop- ments. In recent years there has been a steady expansion of applications of x-ray analysis to characterize surfaces and thin films. To introduce the audience to one of the exciting and important new developments in x-ray fluorescence, the topic for the Plenary Session of the 1990 Conference was: "Surface and Near-Surface X-Ray Spectroscopy. " The Conference had the privilege of inviting five leading world experts in the field of x-ray spectroscopy to deliver lectures at the Plenary Session. The first two lectures were on total-reflection x-ray fluorescence spectrometry. Professor P. Wobrauschek of Austria reviewed "Recent Developments and Results in Total-Reflection X-Ray Fluorescence. " Trends and applications of the technique were also discussed. Dr. T. Arai of Japan reported on "Surface and Near-Surface Analysis of Silicon Wafers by Total Reflection X-Ray Fluorescence. " He emphasized the importance of using proper x-ray optics to achieve high signal-to-noise ratios. A mathematical model relating the x-ray intensity to the depth of x-ray penetration was also described.

Specificaties

Betrokkenen

Uitgeverij:

Inhoud

Aantal bladzijden:
743
Taal:
Engels
Reeks:
Reeksnummer:
nr. 34

Eigenschappen

Productcode (EAN):
9780306440038
Verschijningsdatum:
30/06/1991
Uitvoering:
Hardcover
Formaat:
Genaaid
Gewicht:
1550 g
Standaard Boekhandel

Alleen bij Standaard Boekhandel

+ 201 punten op je klantenkaart van Standaard Boekhandel
E-BOOK ACTIE

Tot meer dan 50% korting

op een selectie e-books
E-BOOK ACTIE
E-book kortingen
Standaard Boekhandel

Beoordelingen

We publiceren alleen reviews die voldoen aan de voorwaarden voor reviews. Bekijk onze voorwaarden voor reviews.