Standaard Boekhandel gebruikt cookies en gelijkaardige technologieën om de website goed te laten werken en je een betere surfervaring te bezorgen.
Hieronder kan je kiezen welke cookies je wilt inschakelen:
Technische en functionele cookies
Deze cookies zijn essentieel om de website goed te laten functioneren, en laten je toe om bijvoorbeeld in te loggen. Je kan deze cookies niet uitschakelen.
Analytische cookies
Deze cookies verzamelen anonieme informatie over het gebruik van onze website. Op die manier kunnen we de website beter afstemmen op de behoeften van de gebruikers.
Marketingcookies
Deze cookies delen je gedrag op onze website met externe partijen, zodat je op externe platformen relevantere advertenties van Standaard Boekhandel te zien krijgt.
Je kan maximaal 250 producten tegelijk aan je winkelmandje toevoegen. Verwijdere enkele producten uit je winkelmandje, of splits je bestelling op in meerdere bestellingen.
This comprehensive book provides an overview of the key techniques used in the fabrication of micron-scale structures in silicon. Recent advances in these techniques have made it possible to create a new generation of microsystem devices, such as microsensors, accelerometers, micropumps, and miniature robots. The authors underpin the discussion of each technique with a brief review of the fundamental physical and chemical principles involved. They pay particular attention to methods such as isotropic and anisotropic wet chemical etching, wafer bonding, reactive ion etching, and surface micromachining. There is a special section on bulk micromachining, and the authors also discuss release mechanisms for movable microstructures. The book is a blend of detailed experimental and theoretical material, and will be of great interest to graduate students and researchers in electrical engineering and materials science whose work involves the study of micro-electromechanical systems (MEMS).