Standaard Boekhandel gebruikt cookies en gelijkaardige technologieën om de website goed te laten werken en je een betere surfervaring te bezorgen.
Hieronder kan je kiezen welke cookies je wilt inschakelen:
Technische en functionele cookies
Deze cookies zijn essentieel om de website goed te laten functioneren, en laten je toe om bijvoorbeeld in te loggen. Je kan deze cookies niet uitschakelen.
Analytische cookies
Deze cookies verzamelen anonieme informatie over het gebruik van onze website. Op die manier kunnen we de website beter afstemmen op de behoeften van de gebruikers.
Marketingcookies
Deze cookies delen je gedrag op onze website met externe partijen, zodat je op externe platformen relevantere advertenties van Standaard Boekhandel te zien krijgt.
Door een staking bij bpost kan je online bestelling op dit moment iets langer onderweg zijn dan voorzien. Dringend iets nodig? Onze winkels ontvangen jou met open armen!
Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
Gratis thuislevering in België vanaf € 30
Ruim aanbod met 7 miljoen producten
Door een staking bij bpost kan je online bestelling op dit moment iets langer onderweg zijn dan voorzien. Dringend iets nodig? Onze winkels ontvangen jou met open armen!
Je kan maximaal 250 producten tegelijk aan je winkelmandje toevoegen. Verwijdere enkele producten uit je winkelmandje, of splits je bestelling op in meerdere bestellingen.
The most straightforwardmethod to change the surface properties of a ma- rial is to deposit a thin ?lm or coating on it. Hence, it is not surprising that an overwhelming amount of scienti?c and technical papers is published each year on this topic. Sputter deposition is one of the many so-called physical vapour deposition (PVD) techniques. In most cases, sputter deposition uses a magnetically enhanced glow discharge or magnetron discharge to produce the ions which bombard and sputter the cathode material. In the ?rst chapter of this book (Chap. 1), the details of the sputter process are discussed. Essential to sustain the discharge is the electron emission during ion bombardment. Indeed, the emitted electrons are accelerated from the target and can ionize gas atoms. The formed ions bombard again the target completing the s- taining process. A complete chapter is assigned to this process to highlight its importance (Chap. 2). Although the sustaining process can be described quite straightforward, a complete understanding of the magnetron discharge and the in?uence of di?erent parameters on the discharge characteristics is onlypossiblebymodelling(seeChap.3).Withthesethreechapters, thereader should be able to form an idea of the target and plasma processes occurring during a DC magnetron discharge.