Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
Gratis thuislevering in België vanaf € 30
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
Gratis thuislevering in België vanaf € 30
Ruim aanbod met 7 miljoen producten

Winkels

Verlanglijstje

Winkels

Verlanglijstje

Zoeken

Volg ons op

Wist je dat er in Vlaanderen voor iedereen een Standaard Boekhandel is binnen een straal van 7 km?

Zoek een winkel

€ 29,95

+ 59 punten

Levertermijn 1 à 4 weken

Eenvoudig bestellen

Veilig betalen

Gratis thuislevering vanaf € 30 (via bpost)

Gratis levering in je Standaard Boekhandel

Omschrijving

This book aims at describing in detail the different layout techniques for remarkably boosting the electrical performance and the ionizing radiation tolerance of planar Metal-Oxide-Semiconductor (MOS) Field Effect Transistors (MOSFETs) without adding any costs to the current planar Complementary MOS (CMOS) integrated circuits (ICs) manufacturing processes. These innovative layout styles are based on pn junctions engineering between the drain/source and channel regions or simply MOSFET gate layout change. These interesting layout structures are capable of incorporating new effects in the MOSFET structures, such as the Longitudinal Corner Effect (LCE), the Parallel connection of MOSFETs with Different Channel Lengths Effect (PAMDLE), the Deactivation of the Parallel MOSFETs in the Bird's Beak Regions (DEPAMBBRE), and the Drain Leakage Current Reduction Effect (DLECRE), which are still seldom explored by the semiconductor and CMOS ICs industries. Several three-dimensional (3D) numerical simulations and experimental works are referenced in this book to show how these layout techniques can help the designers to reach the analog and digital CMOS ICs specifications with no additional cost. Furthermore, the electrical performance and ionizing radiation robustness of the analog and digital CMOS ICs can significantly be increased by using this gate layout approach.