Wil je zeker zijn dat je cadeautjes op tijd onder de kerstboom liggen? Onze winkels ontvangen jou met open armen. Nu met extra openingsuren op zondag!
  • Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
  • Gratis thuislevering in België vanaf € 30
  • Ruim aanbod met 7 miljoen producten
Wil je zeker zijn dat je cadeautjes op tijd onder de kerstboom liggen? Onze winkels ontvangen jou met open armen. Nu met extra openingsuren op zondag!
  • Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
  • Gratis thuislevering in België vanaf € 30
  • Ruim aanbod met 7 miljoen producten
  1. Boeken
  2. Non-fictie
  3. Wetenschap
  4. Techniek
  5. Evolution of Thin Film Morphology

Evolution of Thin Film Morphology

Modeling and Simulations

Matthew Pelliccione, Toh-Ming Lu
Paperback | Engels | Springer Materials Science | nr. 108
€ 153,95
+ 307 punten
Uitvoering
Levering 1 à 2 weken
Eenvoudig bestellen
Veilig betalen
Gratis thuislevering vanaf € 30 (via bpost)
Gratis levering in je Standaard Boekhandel

Omschrijving

Thin?lmdepositionisthemostubiquitousandcriticaloftheprocessesusedto manufacture high-tech devices such as microprocessors, memories, solar cells, microelectromechanicalsystems(MEMS), lasers, solid-statelighting, andp- tovoltaics. The morphology and microstructure of thin ?lms directly controls their optical, magnetic, and electrical properties, which are often signi?cantly di?erent from bulk material properties. Precise control of morphology and microstructure during thin ?lm growth is paramount to producing the - sired ?lm quality for speci?c applications. To date, many thin ?lm deposition techniques have been employed for manufacturing ?lms, including thermal evaporation, sputterdeposition, chemicalvapordeposition, laserablation, and electrochemical deposition. The growth of ?lms using these techniques often occurs under highly n- equilibrium conditions (sometimes referred to as far-from-equilibrium), which leads to a rough surface morphology and a complex temporal evolution. As atoms are deposited on a surface, atoms do not arrive at the surface at the same time uniformly across the surface. This random ?uctuation, or noise, which is inherent to the deposition process, may create surface growth front roughness. The noise competes with surface smoothing processes, such as surface di?usion, to form a rough morphology if the experiment is performed at a su?ciently low temperature and / or at a high growth rate. In addition, growth front roughness can also be enhanced by growth processes such as geometrical shadowing. Due to the nature of the deposition process, atoms approaching the surface do not always approach in parallel; very often atoms arrive at the surface with an angular distribution.

Specificaties

Betrokkenen

Auteur(s):
Uitgeverij:

Inhoud

Aantal bladzijden:
206
Taal:
Engels
Reeks:
Reeksnummer:
nr. 108

Eigenschappen

Productcode (EAN):
9781441925800
Verschijningsdatum:
19/11/2010
Uitvoering:
Paperback
Formaat:
Trade paperback (VS)
Afmetingen:
150 mm x 231 mm
Gewicht:
317 g
Standaard Boekhandel

Alleen bij Standaard Boekhandel

+ 307 punten op je klantenkaart van Standaard Boekhandel
E-BOOK ACTIE

Tot meer dan 50% korting

op een selectie e-books
E-BOOK ACTIE
E-book kortingen
Standaard Boekhandel

Beoordelingen

We publiceren alleen reviews die voldoen aan de voorwaarden voor reviews. Bekijk onze voorwaarden voor reviews.