- Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
- Gratis thuislevering in België vanaf € 30
- Ruim aanbod met 7 miljoen producten
- Afhalen na 1 uur in een winkel met voorraad
- Gratis thuislevering in België vanaf € 30
- Ruim aanbod met 7 miljoen producten
Atomic Layer Deposition 2e
Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, Arthur Sherman
Hardcover | Engels
€ 307,95
+ 615 punten
Omschrijving
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.
Specificaties
Betrokkenen
- Auteur(s):
- Uitgeverij:
Inhoud
- Aantal bladzijden:
- 272
- Taal:
- Engels
Eigenschappen
- Productcode (EAN):
- 9781118062777
- Verschijningsdatum:
- 28/05/2013
- Uitvoering:
- Hardcover
- Formaat:
- Genaaid
- Afmetingen:
- 155 mm x 236 mm
- Gewicht:
- 566 g
Alleen bij Standaard Boekhandel
+ 615 punten op je klantenkaart van Standaard Boekhandel
E-BOOK ACTIE
Beoordelingen
We publiceren alleen reviews die voldoen aan de voorwaarden voor reviews. Bekijk onze voorwaarden voor reviews.